고반복률
단펄스 슬래브 레이저

M² < 1.3 빔 품질, < 10 ns 펄스 폭, 1–10 kHz 가변 반복률, 최대 60 mJ 펄스 에너지를 제공하는 다이오드 펌프 고체 인노슬랩 레이저. 과학 연구 및 산업용 정밀 가공을 위해 설계되었습니다.

1064 / 532 / 355 nm 60 mJ 펄스 에너지 < 10 ns 펄스 폭 커스텀 빔 프로파일

저희를 선택하십시오 — 국제적으로 앞선 성능을 더 낮은 가격에.

60 mJ
최대 펄스 에너지
< 10 ns
펄스 폭
1–10 kHz
반복률 (가변)
M² < 1.3
빔 품질

CASEO-LASER-DHS

고반복률 단펄스 인노슬랩 슬래브 레이저 — 회절 한계에 가까운 빔 품질과 뛰어난 열 안정성 및 장기 운용 일관성.

CASEO-LASER-DHS 인노슬랩 슬래브 레이저 헤드 다이오드 펌프 고체 (DPSS)

DHS 시리즈

전기광학 Q-스위칭 슬래브(Innoslab 방식) 레이저 · 파장 1064 / 532 / 355 nm

광학 성능

파장1064, 532, 355 nm (커스터마이즈 가능)
빔 품질 M²< 1.3
펄스 폭< 10 ns
반복률1 – 10 kHz (가변)
최대 펄스 에너지60 mJ 또는 30 mJ (커스터마이즈 가능)
에너지 안정성 (RMS)2%
빔 발산각< 1 mrad

빔 특성

스폿 크기 (직경)3 mm
스폿 형태라인 / 원형 (커스터마이즈 가능)
편광 소광비100 : 1

물리 및 전원

레이저 헤드 크기495 × 193 × 151 mm
레이저 헤드 무게30 kg
칠러 크기450 × 578 × 281 mm
칠러 무게30 kg
전원 입력220 V ±10%, 50/60 Hz AC, 1 kW
칠러 입력220 V ±10%, 50/60 Hz AC, 1.4 kW
냉각 방식수냉식
워밍업 (콜드 스타트)15분
작동 환경15 – 30°C / 10 – 60% Rh
  • ✓ 무보수 운용 — 정기적인 광학계 세척 불필요
  • ✓ 시스템 통합이 용이한 컴팩트하고 견고한 설계
  • ✓ 높은 신뢰성의 긴 작동 수명
  • ✓ 다중 파장 지원 및 커스텀 구성 제공

CASEO-LASER-DHS를 선택하는 이유

높은 빔 품질 (M² < 1.3)

회절 한계에 가까운 빔으로 분광, 이미징, 재료 가공 응용에서 마이크론급 정밀도를 구현합니다.

짧은 펄스 폭 (< 10 ns)

높은 첨두 출력의 나노초급 펄스가 열 손상을 최소화하여 LIBS, 어블레이션 연구, 취성 재료 정밀 가공에 이상적입니다.

가변 반복률 (1–10 kHz)

단발부터 10 kHz까지 넓은 가변 범위로 시간 분해 분광부터 고속 가공까지 다양한 응용에 최적화할 수 있습니다.

높은 펄스 에너지 (60 mJ)

Ti:Sapphire 증폭기, OPO/OPA 시스템, 색소 레이저의 효율적 펌핑을 위한 뛰어난 펄스 에너지. LIBS 및 LIF에서 강력한 신호 생성.

커스터마이즈 가능한 빔 프로파일

요청에 따라 라인형 또는 원형 빔 출력 — 외부 빔 성형 광학계 불필요. 특정 실험·공정에 맞게 공간 프로파일을 조정합니다.

높은 신뢰성, 긴 수명

전도 냉각 펌프 다이오드를 갖춘 견고한 다이오드 펌프 고체 설계. 까다로운 연구실·산업 환경에서 검증된 장기 일관성.

컴팩트 & 무보수

최소 설치 면적의 통합 설계. 정기적인 광학계 정렬이나 세척 불필요 — 레이저가 아닌 연구에 집중하십시오.

과학 연구 & 정밀 산업

레이저 유도 파괴 분광(LIBS)부터 경질·취성 재료의 정밀 가공까지 — DHS 시리즈는 연구 및 산업 전반의 까다로운 응용을 지원합니다.

LIBS

레이저 유도 파괴 분광법 — 강력한 플라즈마 생성과 고감도 검출을 위한 높은 첨두 출력 펄스로 원소 분석.

LIDAR

레이저 탐지 및 거리 측정 — 높은 펄스 에너지와 가변 반복률로 대기 센싱, 원격 모니터링, 3D 매핑.

PIV

입자 영상 유속계(PIV) — 유체역학 연구의 유동장 가시화. 짧은 펄스가 입자 운동을 정지시켜 고해상도 속도 매핑.

LIF

레이저 유도 형광(LIF) — 분자 및 생물학적 이미징. 정밀 여기와 고감도 형광 검출을 위한 높은 빔 품질.

Ti:Sapphire / 색소 레이저 펌핑

가변 레이저 시스템의 효율적 펌핑을 위한 532 nm 60 mJ 펄스 에너지. 초고속 증폭기 체인에 이상적인 펌프 소스.

OPO / OPA 펌핑

광 파라메트릭 발진기·증폭기 펌핑 — 분광 및 양자 광학 연구를 위한 파장 가변 소스 생성.

정밀 가공

세라믹, 유리, 사파이어 등 경질·취성 재료 가공. 깨끗한 어블레이션과 미세 구조화를 위한 높은 첨두 출력의 짧은 펄스.

귀하의 응용 분야

커스텀 구성 가능 — 커스터마이즈 옵션을 보거나 특정 파장·에너지·빔 프로파일 요구 사항을 문의하십시오.

카탈로그 선택이 아닌, 귀하의 응용에 맞게 구성

모든 DHS 시스템은 주문 제작됩니다. 파장, 펄스 에너지, 반복률, 빔 프로파일, 제어 인터페이스, 기계적 외함이 귀하의 응용에 맞게 지정됩니다 — 표준 실험실 설치부터 완전 통합 OEM 서브시스템까지.

파장 & 고조파

내장 또는 외장 SHG(532 nm), THG(355 nm), FHG(266 nm)를 갖춘 기본파 1064 nm. 요청 시 대체 기본파 및 OPO 펌핑 가변 출력 제공.

펄스 에너지 & 반복률

30 mJ 또는 60 mJ 플랫폼, 단발부터 10 kHz. 동기화·카메라 게이트 실험을 위한 버스트 모드 및 펄스 온 디맨드 트리거.

빔 프로파일 & 스폿 형상

라인 또는 원형 출력, 커스텀 스폿 직경, 플랫탑 또는 준가우시안 프로파일, 최대 100:1 편광 제어 — 외부 빔 성형 광학계 불필요.

펄스 폭 & 타이밍

표준 10 ns 미만, 어블레이션·검출 윈도우에 맞춘 Q-스위치 타이밍. 프로그래머블 지연을 갖춘 외부 트리거 입력.

제어 & 통합

TTL 트리거, RS-232 / 이더넷 제어, 버스트 게이팅. 자동 측정 설정을 위한 LabVIEW 및 Python 드라이버가 포함된 SDK.

기계 & 냉각 옵션

통합 또는 원격 칠러, 헤드 단독 OEM 구성, 커스텀 마운팅 인터페이스, 시스템 레이아웃에 맞춘 케이블 길이.

환경 강화

확장된 온도·습도 범위, 분진·진동 내성, 현장 배치 LIDAR 및 옥외 설치를 위한 고도 디레이팅.

규정 준수 & 인증

CE 및 FDA 문서, 레이저 안전 인터록 통합, 시스템 레벨 인증을 위한 Class IV 엔클로저 설계 지원.

응용별 표준 구성

일반적인 연구·산업 요구 사항을 기반으로 한 시작점 — 모든 파라미터는 조정 가능합니다.

응용 분야표준 구성작동 원리
LIBS1064 또는 532 nm · 1–10 kHz · 라인 빔 · <2% RMS 안정성높은 첨두 출력이 깨끗하게 어블레이션하여 강력하고 재현 가능한 플라즈마 방출; kHz 속도가 다중 지점 매핑과 신호 평균화를 가속
LIDAR532 nm · 고반복률 · <1 mrad 발산각 · 견고화 헤드좁은 발산각이 도달 범위를 확장; 버스트 트리거가 고속 스캐너 및 게이트 검출기와 동기화
PIV / LIF532 또는 355 nm · kHz 펄스 쌍 · 플랫탑 시트 프로파일짧은 펄스가 입자 운동을 정지; 균일한 시트 프로파일이 깨끗하고 포화되지 않은 이중 프레임 이미지 제공
Pumping (OPO / OPA / Ti:Sapphire)532 nm · 60 mJ · M² < 1.3회절 한계에 가까운 초점의 높은 에너지가 변환 효율과 튜닝 범위를 극대화
Precision machining355 nm UV · 높은 첨두 출력 · 산업 듀티 사이클UV 흡수와 짧은 펄스가 경질·취성 재료의 열영향부를 최소화

커스터마이즈 진행 방식

  1. 1요구 사항 검토

    응용 분야, 목표 파라미터, 통합 제약

  2. 2광학 & 시스템 설계

    엔지니어가 귀하의 사양에 맞춰 구성을 제안

  3. 3제안 & 견적

    확정 사양, 납기, 가격

  4. 4제작 & 검증

    합의된 파라미터 기준의 공장 수용 테스트

  5. 5납품 & 지원

    설치 가이드, 문서, 응용 엔지니어링

DHS 시리즈 — 전체 파라미터 목록

별도 표기가 없으면 모든 값은 1064 nm 기본파 파장에서 측정되었습니다. 요청 시 커스텀 구성이 제공됩니다.

파라미터사양
파장1064 nm, 532 nm, 355 nm (커스터마이즈 가능)
빔 품질 (M²)< 1.3
반복률1 – 10 kHz (가변)
최대 단일 펄스 에너지60 mJ 또는 30 mJ (커스터마이즈 가능)
펄스 폭< 10 ns
에너지 안정성 (RMS)2%
빔 발산각< 1 mrad
스폿 크기 (직경)3 mm
스폿 형태라인 / 원형 (커스터마이즈 가능)
편광 소광비100 : 1
워밍업 시간 (콜드 스타트)15분
전원 전압 / 입력 전력단상 220 V ±10%, 50/60 Hz AC / 1 kW
칠러 전압 / 입력 전력단상 220 V ±10%, 50/60 Hz AC / 1.4 kW
냉각 방식수냉식
작동 온도15 °C – 30 °C
작동 습도10% Rh – 60% Rh
레이저 헤드 크기 (L × W × H)495 mm × 193 mm × 151 mm
칠러 크기 (L × W × H)450 mm × 578 mm × 281 mm
레이저 헤드 무게30 kg
칠러 무게30 kg
레이저 유형다이오드 펌프 고체 (DPSS) · 전기광학 Q-스위칭 · 인노슬랩
이득 매질Nd:YAG
CASEO-LASER-DHS 레이저 헤드 및 수냉 칠러 치수 도면

자주 묻는 질문

연구자와 시스템 통합업체가 엔지니어에게 가장 자주 묻는 기술 질문.

슬래브 레이저란 무엇이며, 로드 및 파이버 방식과 어떻게 다릅니까?

A slab laser amplifies in a thin, rectangular gain medium pumped through its large faces. The high surface-to-volume ratio removes heat efficiently, so it sustains high average power at near-diffraction-limited beam quality (M² < 1.3) — while keeping the high pulse energy and wavelength flexibility that fiber designs trade away. When an application needs beam quality and pulse energy together, the slab geometry is usually the right starting point.

CASEO-LASER-DHS 시리즈는 어떤 응용 분야를 위해 설계되었습니까?

고반복률 단펄스 작업: LIBS 원소 분석, LIDAR 및 대기 센싱, PIV·LIF 진단, Ti:Sapphire·색소·OPO·OPA 시스템 펌핑, 경질·취성 재료의 정밀 가공. 표준 파장은 1064, 532, 355 nm이며, 요청 시 대체 기본파 및 고조파 조합도 제공됩니다.

슬래브 레이저와 파이버 레이저, 어떻게 선택해야 합니까?

Choose a slab laser when beam quality, pulse energy, and wavelength flexibility dominate — spectroscopy, pumping, imaging, precision ablation. Choose a fiber laser when wall-plug efficiency, compactness, and maintenance-free industrial duty dominate — marking, welding, high-throughput cutting. The DHS series covers the first category with M² < 1.3, up to 60 mJ, and full harmonic coverage.

특정 응용 분야에 맞게 레이저를 커스터마이즈할 수 있습니까?

Yes — every DHS system is built to order. 파장, pulse energy, repetition rate, pulse width, beam profile, spot size, polarization, control interfaces, mechanical envelope, and cooling integration are all configurable. See the customization section for the full option list and typical configurations by application.

설비 및 통합 요구 사항은 무엇입니까?

단상 220 V ±10% 전원(1 kW 레이저 헤드, 1.4 kW 칠러)과 제공된 칠러를 통한 수냉이 필요합니다. 작동 환경은 15–30 °C, 상대습도 10–60%이며, 콜드 스타트 후 15분 워밍업이 필요합니다. 시스템 제작자를 위한 헤드 단독 OEM 구성 및 원격 칠러 옵션이 제공됩니다.

어떤 문서와 지원이 제공됩니까?

모든 시스템에는 완전한 사양서와 사용자 문서, 설치 가이드, 응용 엔지니어링 지원이 포함됩니다. 커스텀 구성은 출하 전 합의된 파라미터 기준으로 검증되며, 기술 문의에는 영업일 기준 24시간 내에 응답합니다.

DHS 슬래브 레이저를 통합할 준비가 되셨습니까?

귀하의 연구 또는 산업 응용 분야를 알려주십시오 — 최적의 파장, 에너지, 빔 프로파일을 구성해 드립니다.

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중국 항저우의 엔지니어링 팀이 24시간 내에 응답합니다. 전 세계 배송 가능.

CAS-EO 문의

기술 사양, 가격, 납기 또는 커스텀 구성 요청은 직접 문의하십시오.

이메일398221207@qq.com
응답 시간24시간 이내 (영업일 기준)
본사중국 저장성 항저우 컴퓨팅 파워 타운
전화+86 13269913610